Японская компания Dai Nippon Printing достигла значительного прогресса в области нанолитографии, предлагая более выгодную альтернативу существующей фотолитографии, которая в настоящее время доминирует на рынке, сообщает Nikkei Asia. В настоящее время нидерландская ASML контролирует около 90% мирового рынка оборудования для производства полупроводников, используя технологии фотолитографии, основанные на мощных УФ-лазерах, что делает процесс очень энергозатратным и дорогостоящим.
Новая разработка Dai Nippon Printing возрождает нанолитографию, в которой схему не рисуют лазером, а отпечатывают на кремниевой основе. Ранее считалось, что этот метод не подходит для чипов с топологическим узлом менее 2 нанометров, но инженеры компании смогли преодолеть это ограничение благодаря созданию специального материала. В сочетании с оборудованием Canon, которое позволяет формировать структуры размером до 1,4 нм, новая технология оказывается на 90% дешевле традиционной.
Ведущие производители, такие как Samsung, TSMC и Micron Technology, уже проявили интерес к разработке. Kioxia начала тестовое производство, и если результаты окажутся успешными, массовое внедрение технологии может начаться в 2027–2028 годах.